吡喹酮混懸液研磨分散機(jī)運(yùn)行原理： 混懸液研磨分散機(jī)在電動(dòng)機(jī)的高速轉(zhuǎn)動(dòng)下物料從進(jìn)口處直接進(jìn)入混懸液破碎區(qū)，通過(guò)一種特殊粉碎裝置，將流體中的一些大粉團(tuán)、粘塊、團(tuán)塊等大小顆粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎區(qū)，在十分狹窄的工作過(guò)道內(nèi)由于轉(zhuǎn)子刀片與定子刀片相對(duì)高速切割從而產(chǎn)生強(qiáng)烈摩擦及研磨破碎等。
CIK頭孢噻肟鈉研磨分散機(jī)，轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，剪切力強(qiáng)，是國(guó)內(nèi)設(shè)備的4-5倍。研磨分散機(jī)是膠體磨和分散機(jī)的一體化設(shè)備，磨頭結(jié)構(gòu)、分散盤(pán)的結(jié)構(gòu)，也更適合細(xì)胞破碎、細(xì)胞破壁。采用博格曼雙端面機(jī)械密封，并配有機(jī)封冷卻系統(tǒng)，可供工業(yè)化生產(chǎn)24小時(shí)運(yùn)行。分體式結(jié)構(gòu)，通過(guò)皮帶提速，可根據(jù)調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速，滿(mǎn)足不同細(xì)胞破碎要求，合適的轉(zhuǎn)速，合理的剪切力不易導(dǎo)致產(chǎn)品變性失活。
NKD2000系列頭孢克洛混懸液研磨分散機(jī)具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑微米級(jí)0.2-2μm，可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。該設(shè)備可以適用于各種分散乳化工藝，也可用于生產(chǎn)包括對(duì)乳狀液,懸浮液和膠體的均質(zhì)混合。德國(guó)進(jìn)口分散乳化機(jī)由定/轉(zhuǎn)子系統(tǒng)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。
中成藥管線式研磨分散機(jī)是一款集研磨和分散一體化的設(shè)備，是一項(xiàng)新的技術(shù)革新。研磨分散機(jī)是將膠體磨（錐體磨）+高剪切分散機(jī)一體化的設(shè)備，先研磨后分散，物料研磨后又瞬間進(jìn)行分散，避免了物料的二次團(tuán)聚。 膠體磨和分散機(jī)的一體化設(shè)計(jì)相對(duì)于膠體磨和分散機(jī)的串聯(lián)而言更具優(yōu)勢(shì)。串聯(lián)的話(huà)存在時(shí)間差，當(dāng)物料通過(guò)膠體磨之后，磨細(xì)后物料會(huì)出現(xiàn)抱團(tuán)的現(xiàn)象，再經(jīng)過(guò)分散機(jī)分散，效果不是很好。而NKD研磨分散機(jī)的話(huà)，物料磨細(xì)后
【CIK轉(zhuǎn)移因子研磨分散機(jī)的簡(jiǎn)介】 高剪切研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)移因子膠體磨是專(zhuān)門(mén)為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計(jì)，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。NK2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改
高剪切除草劑研磨分散機(jī)的一般生產(chǎn)工藝 通常是由液相構(gòu)成，其中懸浮著活性劑。配方中還包括一些添加劑，如濕化劑、懸浮劑、消泡劑等。粉體和液體混合之后，再進(jìn)一步研磨，以達(dá)到要求的細(xì)度（通常為5 um以下，用于噴涂），產(chǎn)品也有可能直接送入噴霧干燥機(jī)。
